Datei:Double exposure type A.svg – Wikipedia
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aktuell | 20:08, 23. Nov. 2011 | 877 × 402 (43 KB) | Cepheiden | {{Information |Description ={{en|1=Double exposure process with a single photresist layer (type A): a) Photoresist coating b) First exposure c) Second exposure at different locations d) Development of the photoresist e) Anisotropic etching of an under |
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