神村共住

神村 共住(かみむら ともすみ)は、日本の電気電子工学者大阪工業大学工学部電子情報システム工学科教授。工学博士(大阪大学)。大阪大学レーザー科学研究所招へい教授(兼務)。フォトポリマー学会第36回国際フォトポリマーコンファレンス(レジスト除去技術部門B4-02)座長[1][2][3][4]

専門は、光工学光量子科学、レーザー工学(特に高出力レーザ)・光エレクトロニクス

経歴[編集]

1995年大阪工業大学工学部電子工学科を卒業。2000年大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻博士課程修了、工学博士(大阪大学)。その後、大阪工業大学工学部電子工学科准教授などを経て、現在、同学部電子情報システム学科教授、学科長。

主な所属は、レーザー学会国際光工学会(SPIE)、フォトポリマー学会、電気学会日本物理学会応用物理学会。主な受賞は、Best Poster Award(Annual Symposium on Optical Materials for High Power Lasers)など。主な著書は、「光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御」(共著、技術情報協会2013、学術書)。

主な研究[編集]


主な国際会議での発表は、

  • 「Enhancement of Fused Silica Laser Damage Resistance using Magnetic Field-Assisted Finishing」

国際会議 SPIE Laser Damage Symposium 2018(コロラド

  • 「Study on Tool Motion during Magnetic Field-Assisted Finishing on Fused Silica Laser Optics」

45th International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites 2021(オンライン)

また、電気電子工学啓蒙の対外活動として、科学技術振興機構(JST)主催「日中大学フェア&フォーラムin CHINA」2018日本技術展(広州)に、「レーザー用光学素子の接合技術」を出展し、日中間での学術交流に貢献している [7]

脚注[編集]

外部リンク[編集]